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恒奧德儀器紫外臭氧清洗機工作原理以及應用
點擊次數:1186      更新時間:2023-04-17

恒奧德儀器紫外臭氧清洗機工作原理以及應用

 

 

工作原理

VUV低壓紫外汞燈能同時發射波長254nm185nm的紫外光,這兩種波長的光子能量可以直接打開和切斷有機物分子中的共價鍵,使有機物分子活化,分解成離子、游離態原子、受激分子等。與此同時,185nm波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣(O2)分解成臭氧(O3);而254nm波長的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧(O),這個光敏氧化反應過程是連續進行的,在這兩種短波紫外光的照射下,臭氧會不斷的生成和分解,活性氧原子就會不斷的生成,而且越來越多,由于活性氧原子(O)有強烈的氧化作用,與活化了的有機物(即碳氫化合物)分子發生氧化反應,生成揮發性氣體(如CO2CO,H2ONO等)逸出物體表面,從而清除了粘附在物體表面上的有機污染物。

 

 

應用

光清洗技術的應用范圍十分廣泛,在現代信息技術行業中使用光清洗技術比較普遍,隨著我國工業現代化的發展,光清洗和光改質技術還將逐步應用于金屬、塑料、橡膠等工業生產領域。

1、在LCDOLED生產中,在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經過光清洗,可以極大的提高基體表面潤濕性,增強基體表面的粘合力;

2、印制電路板生產中,對銅底板,印刷底板進行光清洗和改質,在導線焊接前進行光清洗,可以提高熔焊的接觸面積,大大增加連接強度。特別是高精度印制電路板,當線距達到亞微米級時,光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒,可以大大提高印制電路板的質量。

3、大規模集成電路的密度越來越高,晶格的微細化越來越密,要求表面的潔凈度越來越高,光清洗可以有效地實現表面的原子清潔度,而且對芯片表面不會造成損傷。

4、在半導體生產中,硅晶片涂保護膜、鋁蒸發膜前進行光清洗,可以提高粘合力,防止針孔、裂縫的發生。

5、在光盤的生產中,沉積各種膜前作光清洗準備,可以提高光盤的質量。

6、磁頭固定面的粘合,磁頭涂敷,以及提高金屬絲的連接強度,光清洗后效果更好。

7、石英晶體振蕩器生產中,除去晶體檢測后涂層上的墨跡,晶體在銀蒸發沉積前,進行光清洗可以提高鍍膜質量和產品性能。

8、在IC卡表面插裝ROM前,經過光清洗可提高產品質量。

9、彩色濾光片生產中,光清洗后能洗凈表面的有機污染物。

10、敷銅箔層壓板生產中,經過光照改質,不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護氧化層,產品質量顯著提高。

11、光學玻璃經過紫外光清洗后,鍍膜質量更好。

12、樹脂透鏡光照后,能加強與防反射板的粘貼性。

13、對清除石蠟、松香、油脂、人體體油、殘余的光刻膠、環氧樹脂、焊劑,以及帶有氧化膜的金屬表面處理,去除導電聚酰亞胺粘合劑上的有機污染物,光清洗是十分有效的方法。


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